众所周知，在尖端制程芯片制造领域，荷兰ASML的极紫外（EUV）光刻系统一直居于垄断地位。然而，一家来自挪威的初创公司——Lace Lithography，正试图用一种全新的原子光刻（BEUV）技术来挑战这一格局。